適用于 CMP 拋光過程之前的精加工拋光。
拋光板具有耐用性、可維護性和出色的拋光能力。
磨盤使用時,需按照研磨產品的不同品質要求,設計合理的加工工藝, 可將錫盤表面開槽(槽距、槽寬、槽深)以利儲液排屑,同時調整設備主軸的合適轉速,最大限度的提高研磨質量的效率。
磨盤工作一定的時間后,前期的開槽會變淺同時盤面平面度較差,為保證研磨精度和效率,需及時對磨盤進行重新修面及開槽。
磨盤標準直徑為15”(φ380)、18”(φ460)、20”(φ510)、24”(φ610)、36”(φ910),厚度皆為12.7mm。
● 使用磨粒約1μm的研磨劑 , 可進行精加工研磨的工作 。
● 可高效進行數μm單位的研磨 。
- 防止邊緣下拉,可以進行高平整度的精密拋光。
產品名稱 | 錫盤 |
材料 | 合成材料 |
磨料 | 金剛石漿、金剛石液、WA磨料、GC磨料... 等 |
粒度 | 0.25μm ~ 2μm |
工序 | 精加工拋光 |
備考 | 帶凹槽的研磨盤可提供更高的拋光效率。 此外,拋光屑通過凹槽排出到拋光板之外。 |
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