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  • CMP  化學(xué)拋光液

化學(xué)拋光液

喜百事化學(xué)拋光液要達(dá)到最精細(xì)的工件表面光潔度,在最后的拋光工序上便要選用最優(yōu)質(zhì)的化學(xué)拋光液。Engis的喜百事化學(xué)拋光液選用納米級(jí)的硅微粉(SiO2)作物理拋光(Mechanical Polishing)原料,配合不同化學(xué)特性的拋光劑作為化學(xué)拋光(Chemical Polishing)的界面,能強(qiáng)化整個(gè)化學(xué)物理拋光(Chemical-Mechanical-Polishing,CMP)的工作效率,及有效地去除物料表面因精磨而留下的極淺劃痕。


適用范圍:芯片晶圓
                    光學(xué)晶體/玻璃
                    精密模具
                    微電元件
                    讀寫磁頭及記憶元件

產(chǎn)品編號(hào)
HCL-20
HCL-XL HCL-XL2*
HCL-80
HCL-OL
比重(20℃)
1.12-1.14
1.29-1.32
1.29-1.32
1.12-1.14
pH值(20℃)
9.5-10.0
9.0-10.0
9.5-10.0
2.0-4.0
硅微粉含量(wt%)
20-21
40-41
40-41
20-21
微粉粒度(nm)
20
40-60
60-80
40-50
應(yīng)用
一般拋光使用
磷化銦等各種晶體,粉粒金屬模具使用
快速切削使用
超硬材料拋光使用

也可以提供120nm粒徑的拋光液。

上一條:沒有了! 下一條:engis懸浮型 拋光液

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