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工件:光盤模具
材質:SUS420
研磨機:EJ380IN
搭接板:HY Copper >> 530N Pad
漿料:金剛石3um >>> HCL-XL
循環時間:研磨20分鐘/拋光5分鐘
平整度:< 0.3um /粗糙度:< 1nmRa
機械密封研磨
模具平面研磨/鏡面拋光
CVD金剛石襯底 的研磨拋光產線
日本engis氮化鋁基板拋光技術
化合物半導體材料拋光機單面拋光 CMP InP GaAs
LCD 導光板
公 司:玖研科技(上海)有限公司
聯系人:薛先生
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