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工件:機(jī)械密封圈
材料:碳
研磨機(jī):EJW-400IFN
搭板:HY銅
漿料:3um金剛石漿料
循環(huán)時(shí)間:10分鐘
平整度< 0.5um
機(jī)械密封研磨
模具平面研磨/鏡面拋光
CVD金剛石襯底 的研磨拋光產(chǎn)線
日本engis氮化鋁基板拋光技術(shù)
化合物半導(dǎo)體材料拋光機(jī)單面拋光 CMP InP GaAs
LCD 導(dǎo)光板
公 司:玖研科技(上海)有限公司
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